高性能・高信頼性ULSI多層配線形成用原子層プロセスの開発

日時:2025年  8⽉ 18⽇(月) 15:00 〜 16:00

講師:霜垣 幸浩 教授
   (東京大学大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻

場所:北海道大学 工学部 アカデミックラウンジ3

主催:北海道大学大学院工学研究院 フロンティア化学教育研究センター
共催:北海道大学半導体フロンティア教育研究機構

連絡先:北海道大学大学院工学研究院 応用化学部門 幅﨑 浩樹(内線:6575)

 

ポスター(PDF)